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浮選鉱物処理の起源と投与システムの歴史

19世紀の終わりには、ケリー・アッバセルという名前のアメリカの女性小学校の教師がいました。彼女の夫は鉱山の機械的な修理業者でした。ある日、彼女の夫はいくつかのカルコピライトを持ってきました。彼女は油っぽいバッグを掃除し、別の目的のためにそれを使ってほしかった。彼女は、洗浄プロセス中に、カルコピライトの小さな粒子が石鹸の泡に付着し、水に浮かぶことができることを発見しました。最終的に、この偶発的な発見は、浮選と鉱物処理の新しい技術の起源でした。

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100年以上が経過し、浮上技術が継続的に改善され、そのアプリケーションはますます広範になりました。統計によると、世界の非鉄金属鉱石の90%は現在浮選によって処理されています。さらに、浮選も広く使用されています。希少金属、貴金属、鉄金属、非金属、石炭、その他の鉱物原料の並べ替えに使用されます。

現代の浮選プロセスでは、浮選試薬による処理後、ミネラルの浮能を変更できるため、浮上試薬の予算性を変更できるため、浮上試薬の応用と正確な添加が特に重要になりました。鉱物処理の目的。

鉱物加工剤の追加システムの開発履歴

論理回路の発明の前に、最初の浮選植物は化学物質の手動加算を使用していました。浮選労働者の個人的な経験に依存して、化学バルブの開口部を手動で調整して、浮選化学物質の流量を調整しました。

1960年代、モーターテクノロジーが成熟するにつれて、American Water Conservancy Engineer asses Andruosは水車の原則を使用してスクープタイプの投与機を発明しました。スクーププレートのスクープの量と数を変更することにより、追加される薬の量を変更することができます。流れ。

しかし、回転を通して浮上化学物質の流れを単に制御するだけでは十分ではありません。 1970年代以降、トランジスタ包埋された統合回路マイクロコントローラー(統合回路)が軍事産業から民間使用に移されました。大規模な生産量は、コストを過去の1/100に減らし、自動車整備士および電子機器愛好家であるカナダのジャックジョンズは、余暇を使用して、フローユニットをスイッチング信号に変換できる最初のロジック回路を構築しました。技術交換会議で、Valve CompanyのAmerican Fisher(Fisher)Technical Engineer TalandのTalandは、Jack Johnsのフロースイッチングテクノロジーについて学び、特許技術を取得することでValve Controlの分野に適用しました。

現在、PLCプログラマブルロジックコントローラー(ブランドSiemensを表す)の普及により、人々は自動化ロジックプログラミングに関するわずかな知識しか持たないマルチポイントソレノイドバルブスイッチング制御システムを迅速に構築できます。このようなシステムは、多くのマイニングコンセントレーターも使用していることがあります。通常、ソレノイドバルブ投与機(または重力投与機)と呼びます。

1980年代半ば、周波数変換技術は多くの業界で成熟しています。周波数変換原理を使用して機械的ダイアフラムポンプを制御すると、以前の投与システム(ソレノイドバルブ投与機およびスプーン投与機)よりも高い精密医薬品流量制御を実現できます。これにより、鉱山管理者は化学廃棄物と管理コストを大幅に削減できます。

1980年代以降、特に精密化学物質と水処理の分野で、計量ポンプが産業市場に移行し始めました。計量ポンプの元の設計は、標準的な流体の繰り返しの正確な送達の問題を解決することであったため、鉱物加工業界では計量ポンプが広く使用されています。 、その欠点も暴露されています。最大の問題は次のとおりです。1。出力フローの精度の制御可能な範囲は小さいです。少量の量が設定されている場合、エラーは50%以上になる可能性があります。 2。破裂後のダイアフラム、薬は漏れます。 3.流量は、実際の誘導送達流量ではなく、モーター周波数とポンプヘッドボリュームの間の線形関係に完全に基づいて計算されます。流量を継続的に調整する過程で、流量出力誤差が増加します。 4.パイプラインの詰まりにより、ポンプヘッドが圧力下で破裂し、漏れた化学物質が環境を汚染します。 5。不純物が多い浮選試薬により、ポンプヘッドチェックバルブが詰まり、故障します。 6.多くの外部バイパス制御回路とパイプラインがあり、メンテナンスと設置をより複雑にします。

イタリアの物理学者ジョバンニ・バティスタ・ベンチュリは、ベルヌーリ液の原理を使用してベンチュリ効果を発見し、ベンチュリ管を発明しました。 2013年、ウィルバーはベンチュリ原則を浮選試薬の送達に適用し、VLB The CNC投与システム(特許番号ZL20140649261.1)を発明しました。投与システムは、厚いフィルムロジック制御回路によって制御されます。また、流体力学的投与機とも呼ばれていました。


投稿時間:7月30日 - 2024年